Eksma 薄膜偏振片（56度角）-2

Eksma 薄膜偏振片（56度角）-2

分離特定波長的s偏振和p偏振分量。由于其高損傷閾值，薄膜偏振片在高能激光器的應(yīng)用中取代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

產(chǎn)品介紹

BK7和UV FS薄膜激光偏振片（TFP）的選擇范圍廣泛，可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值，專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計，工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti：Sapphire或Yb：KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長或波長范圍的S偏振和P偏振分量分開。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達(dá)到10 J / cm2，因此在高能激光器的應(yīng)用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb：KGW / KYW或Ti：藍(lán)寶石激光器的基本波長及其諧波，也可以用作腔內(nèi)Q開關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類型的薄膜偏振片：

Ø標(biāo)準(zhǔn)-Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø高透射率（HT）-Rs / Tp：> 99.5 / 99.0％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø很高透射率（UHT）-Ts <0.2％，Rp <0.2％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø高消光比（HE）-Tp> 98％，Ts <0.1％，消光比Tp / Ts> 1000：1

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號

BK7和UV FS薄膜激光偏振片（TFP）的選擇范圍廣泛，可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值，專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計，工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti：Sapphire或Yb：KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長或波長范圍的S偏振和P偏振分量分開。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達(dá)到10 J / cm2，因此在高能激光器的應(yīng)用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb：KGW / KYW或Ti：藍(lán)寶石激光器的基本波長及其諧波，也可以用作腔內(nèi)Q開關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類型的薄膜偏振片：

Ø標(biāo)準(zhǔn)-Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø高透射率（HT）-Rs / Tp：> 99.5 / 99.0％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø很高透射率（UHT）-Ts <0.2％，Rp <0.2％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø高消光比（HE）-Tp> 98％，Ts <0.1％，消光比Tp / Ts> 1000：1

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

BK7和UV FS薄膜激光偏振片（TFP）的選擇范圍廣泛，可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值，專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計，工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti：Sapphire或Yb：KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長或波長范圍的S偏振和P偏振分量分開。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達(dá)到10 J / cm2，因此在高能激光器的應(yīng)用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb：KGW / KYW或Ti：藍(lán)寶石激光器的基本波長及其諧波，也可以用作腔內(nèi)Q開關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類型的薄膜偏振片：

Ø標(biāo)準(zhǔn)-Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø高透射率（HT）-Rs / Tp：> 99.5 / 99.0％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø很高透射率（UHT）-Ts <0.2％，Rp <0.2％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø高消光比（HE）-Tp> 98％，Ts <0.1％，消光比Tp / Ts> 1000：1